咨詢熱線
13810961731
13810961731
追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務體系
誠信經(jīng)營質(zhì)量保障價格合理服務完善
當前位置：首頁 > 產(chǎn)品展示 > > 磁控濺射 > 磁控濺鍍
簡要描述：磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基板以適當?shù)木嚯x放置在靶材的前面。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-07-10訪 問 量：578相關文章
Related Articles詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
|---|
磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基板以適當?shù)木嚯x放置在靶材的前面。由於碰撞的動量，離子中的正離子將以很高的速度轟擊靶材。這些顆粒以薄膜的形式沉積在基板表面上。根據(jù)靶材的不同，可以適當調(diào)整濺鍍槍的功率，例如用於導電靶材的直流電源和用於非導電靶材的射頻電源。
如今，磁控濺鍍沉積製程已成為一種在半導體、LCD面板、太陽能面板和光學元件等許多應用中的核心技術，其薄膜的均勻性和大規(guī)模的商業(yè)效率比熱蒸發(fā)材料方法更為重要。
產(chǎn)品咨詢
