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            • 等離子干蝕刻
              等離子干蝕刻

              等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發(fā)離子與材料的碰撞而發(fā)生的,無需使用任何液體化學(xué)藥品或蝕刻劑即可將其除去。

              更新時(shí)間:2024-07-10型號(hào):訪問量:852
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